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頜面部缺損如何修復(fù)

頜面部缺損如何修復(fù):

1.概念和原理

是口腔修復(fù)學(xué)的一個重要組成部分,是研究應(yīng)用口腔修復(fù)學(xué)的原理和方法,以人工材料修復(fù)患者難以用自體組織和外科手術(shù)方法修復(fù)頜面部缺損的一門科學(xué)技術(shù)。

2.頜面部組織特點極其缺損原因和分類

(一)先天性因素:唇裂,腭裂最為常見,尚有先天性耳缺損,鼻缺損以及面裂等

(二)后天性因素

1.外傷:工傷,燒傷,爆炸傷,交通事故,火器傷所致缺損

2.疾病:頜骨腫瘤手術(shù)最為多見,其次為炎癥(走馬疳,頜骨骨髓炎)

頜骨缺損修復(fù)治療原則

(一)早期,系列治療

(二)盡可能恢復(fù)生理功能(咀嚼,語言,吞咽,吮吸)上頜骨首先封閉口鼻腔,下頜首先恢復(fù)下頜骨連續(xù)性,以恢復(fù)正常頜關(guān)系。

(三)保護余留組織

(四)要有良好的固位

(五)修復(fù)體堅固輕巧,使用方便,感覺舒適

3.頜面部缺損修復(fù)不同狀況的模型制備

頜骨缺損修復(fù)-的印模技術(shù)

(一)個別托盤印模法:

個別托盤->印模

(二)二次印模法(口裂太小患者):

半側(cè)托盤->半側(cè)模型->半側(cè)卡環(huán)+恒基托->戴入恒基托->另半側(cè)托盤->半側(cè)卡環(huán)+恒基托+另半側(cè)模型->完整恒基托->完整修復(fù)體

(三)分段印模法(口裂太小患者):

半側(cè)托盤->半側(cè)印模(不取出)->另側(cè)托盤(蓋過已取印模)->分別取出兩側(cè)托盤->拼接灌注模型

(四)分層印模法(缺損較深或深達眶底):考試大網(wǎng)站整理

1.印模膏->初印模->初模型->個別托盤(自凝塑料)

2.小個別托盤+印模材->缺損深區(qū)印模(保持不動)->1步大個別托盤+印模材->整個模型->分層取出拼接灌

(五)裂縫托盤印模法(張口受限或口裂縮小者):放入困難取出容易者。

(六)注射印模法(張口度小,印模材對方過多無法進入口腔者,需要取得鼻底倒凹者):注射器+水膠體印模材

3.特殊修復(fù)(耳鼻)

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