[衛(wèi)生法規(guī)]眶耳平面的解剖標志是

原題:
[衛(wèi)生法規(guī)]眶耳平面的解剖標志是

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對構成比的正確描述是
A.其合計可以大于100％，也可以小于100％
B.其合計大于100％
C.其合計小于100％
D.其合計等于100％
E.其動態(tài)變化可以反映某現(xiàn)象發(fā)生強度的改變
答案：
D