全口義齒的印模和模型是口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師考試《口腔修復(fù)學(xué)》考試大綱要求掌握的考點(diǎn)內(nèi)容，醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理了具體資料如下，希望對大家復(fù)習(xí)相關(guān)考點(diǎn)有所幫助。

全口義齒的印模和模型

1. 無牙頜的印模 全口義齒是以黏膜及其下部的骨組織作為支持，以義齒基托為固位的活動義齒。取印模，就是將義齒基托覆蓋著的部分及與基托邊緣接觸的黏膜組織形態(tài)記錄下來。要求印模完整，無牙頜解剖標(biāo)志印跡清楚。

（1）取印模前的準(zhǔn)備

1）選擇印模材料：臨床最常用的是海藻酸鈉彈性印模材料和紅色印模膏。

海藻酸鈉彈性印模材料，取印模較清晰、準(zhǔn)確，易于從口腔內(nèi)整體取出。常用于一次印模法和二次印模法的終印模。

印模膏具有延展性和賦形性，不易變形，有助于取得如上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)、舌側(cè)翼緣區(qū)后段的較深或隱蔽處的印模。因無彈性、流動性差，不易取得微細(xì)結(jié)構(gòu)的印模，臨床多用于制作個別托盤（包括二次印模法的初印模）。

另外有硅橡膠印模材料，氧化鋅印模糊膏、印模石膏等，取得的印模都較清晰、準(zhǔn)確，因成本高，目前國內(nèi)臨床未廣泛使用。

2）選擇托盤：取無牙頜印模的托盤，是橢圓形底、無孔成品托盤，翼較短，與牙槽嵴形態(tài)相適宜。規(guī)格分1、2、3號，1號最大，3號最小，2號適中。

取印模前，要根據(jù)患者頜弓的大小選擇托盤。要求托盤寬度比牙槽嵴頰、舌側(cè)各寬出2——3mm，翼緣距唇頰舌溝黏膜皺襞處低約2mm，各系帶處有相應(yīng)切跡。上頜托盤后緣兩側(cè)要蓋過翼上頜切跡，中部蓋過腭小凹后2mm（顫動區(qū)）處。下頜托盤后緣蓋過磨牙后墊區(qū)。

（2）取即模方法：有一次印模法和二次印模法。

一次印模法：是選擇合適的成品整體托盤，用海藻酸鈉彈性印模材料，在口腔內(nèi)一次完成印模的方法。取印模時，醫(yī)生與患者的體位、操作步驟及方法，與可摘局部義齒取印模的要求相同。

二次印模法：用紅色印模膏先取初印模，制作出適合患者口腔情況的個別托盤，再用個別托盤，盛托海藻酸鈉彈性印模材料，取第二次印模即終印模的方法。

二次印模法制取的終印模，細(xì)致、準(zhǔn)確、清晰、邊緣伸展適度，適合患者口腔情況。因而完成的義齒，基托與黏膜密貼，邊緣封閉作用好。吸附力和大氣壓力的作用增強(qiáng)，固位效果好。

（3）用印模膏制作個別托盤的方法

上頜：取一塊大小合適的紅色印模膏，放入盛有70℃左右水的容器中（為防止印模膏軟化后粘于容器上，可在容器底上襯兩層紗布或以紗布包裹印模膏）。待其充分軟化后用手捏勻，做成餅狀放入上頜托盤內(nèi)。向四周按壓，充滿托盤，腭部高些，頜弓區(qū)低些。如同取可摘局部義齒印模一樣，將托盤旋轉(zhuǎn)入口腔。托盤柄正對面部中線，托盤對準(zhǔn)牙槽嵴，輕輕加壓使其就位，用右手示指和中指固定托盤底。

在印模膏尚未完全硬固之前做肌功能整塑：左手拇指在口腔外，示指在口腔內(nèi)，輕輕牽拉左側(cè)頰部向前下內(nèi)方做左頰側(cè)肌功能整塑。如法，左、右兩手交換，左手固定托盤，右手做右頰側(cè)肌功能整塑。最后用雙手中指固定托盤，拇指和示指將上唇向下內(nèi)方牽拉，做上唇肌功能整塑。

下頜：取印模的方法同上頜。托盤旋轉(zhuǎn)人口腔之后，兩手示指放在兩側(cè)前磨牙區(qū)的底部，兩手拇指分別固定在兩側(cè)舌下部，輕輕按壓使之就位。然后做舌的功能整塑，囑患者將舌尖抬高、前伸，左右擺動。再做兩側(cè)頰部和下唇的肌功能整塑。方法同上頜，頰部的牽拉方向是向前上內(nèi)，下唇是向上內(nèi)方。

操作過程中，如果印模膏變硬，可取出印模膏，將需要整塑的部位，用熱水燙軟，或在酒精燈上烤軟，再放回口腔內(nèi)修整，直到合適后取出，用冷水沖洗后備用。

上下頜印模制作完成并經(jīng)檢查符合要求后，用雕刻刀修去印模外圍過多的印模膏，在印模組織面和邊緣均勻刮除2mm左右厚的印模膏，并消除倒凹，制成個別托盤。

用舊義齒制作個別托盤：取印模前，將舊義齒戴在口腔內(nèi)，檢查基托邊緣伸展是否合適。

過長處磨短，過短處用蠟加長。修整適合患者口腔情況后，再用其取工作印模。

2. 灌注模型

（1）灌注模型的方法和要求：同可摘局部義齒。脫模后，對模型進(jìn)行檢查：模型邊緣應(yīng)有一定寬度，以便反映出唇頰黏膜移行皺襞處的外形；模型要有適當(dāng)厚度，一般不少于10mm，防止模型折斷。

（2）上頜模型后堤區(qū)的處理：在修整好的上頜模型上，用鉛筆畫出兩側(cè)翼上頜切跡和腭小凹后2mm的連線。用雕刻刀沿著連線刻一深約l——1.5mm的溝，再沿此溝向前逐漸變淺呈楔形刮除石膏，最寬處約5mm，形成弓形后堤區(qū)。

（3）上頜后堤區(qū)的檢查：用口鏡柄沿腭小凹探壓兩側(cè)腭黏膜，一直壓至翼上頜切跡的黏膜溝處，有彈性部位即為后堤區(qū)。后堤區(qū)呈弓形，有的因腭中縫隆起明顯而使其中斷為兩個小弓形。依照檢查結(jié)果，用有色鉛筆在黏膜上畫出后堤區(qū)的范圍。在取得的終印模上即有鉛筆印記，用變色筆描記清楚，灌注工作模型時，后堤區(qū)的范圍即可印在模型上。

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